銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材,是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中,銦靶材在高能粒子的轟擊下,銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面,形成所需的銦薄膜。
顯示面板制造:是銦靶的應(yīng)用領(lǐng)域,約占總需求的 52%,主要用于液晶顯示器(LCD)與有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的 ITO 透明導(dǎo)電膜制備,可使面板具有良好的導(dǎo)電性和透明性。
半導(dǎo)體領(lǐng)域:占比 28%,用于晶圓制造的金屬互聯(lián)層與鈍化層沉積,在第三代半導(dǎo)體器件制造中的滲透率持續(xù)攀升,如氮化鎵功率器件就需要使用銦靶。
觸控技術(shù)領(lǐng)域:電容式和電阻式觸摸屏中,ITO 作為電極材料,其透明性和導(dǎo)電性決定了觸控設(shè)備的靈敏度和視覺效果。