銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材,是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中,銦靶材在高能粒子的轟擊下,銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面,形成所需的銦薄膜。
微觀結(jié)構(gòu):銦靶晶粒尺寸一般需維持在 10-50 微米區(qū)間,密度高于 7.31g/cm3,熱導(dǎo)率保持在 81.8W/(m?K) 以上,這些技術(shù)參數(shù)直接決定了其在真空濺射過程中的沉積效率和薄膜質(zhì)量。
顯示技術(shù)領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極,確保顯示設(shè)備既能透光顯示圖像,又能導(dǎo)電傳輸信號。
觸控技術(shù)領(lǐng)域:電容式和電阻式觸摸屏中,ITO 作為電極材料,其透明性和導(dǎo)電性決定了觸控設(shè)備的靈敏度和視覺效果。