銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材,是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中,銦靶材在高能粒子的轟擊下,銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面,形成所需的銦薄膜。
超高密度成型:超高密度成型工藝(≥99.5%)可使靶材具有更好的性能,提高在真空濺射過程中的穩(wěn)定性和使用壽命。
晶粒定向控制:晶粒定向控制技術(shù)能夠控制銦靶的晶粒尺寸和方向,提升濺射薄膜的質(zhì)量和性能,滿足高端應(yīng)用領(lǐng)域的需求。
顯示技術(shù)領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極,確保顯示設(shè)備既能透光顯示圖像,又能導(dǎo)電傳輸信號(hào)。
小金屬:粗銦,精銦,銦靶材,粗鎵,金屬鎵99.99以及廢料。高價(jià)回收鎳片,銑刀, 數(shù)控刀片, 輕質(zhì)數(shù)控刀,廢合金針,針尖,銦.銦絲.氧化銦.
高價(jià)回收鎳片,鎳泥,鎳催化劑,含鎳物料,銑刀, 數(shù)控刀片, 輕質(zhì)數(shù)控刀,廢合金針,針尖,高價(jià) 回收 ( 鉭 ) 鉭絲 鉭粉 鉭電容 鉭鈮 鉭鎢 ,銦.銦絲.氧化銦.金.金屬鍺.鍺錠99.999等.
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