銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材,是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中,銦靶材在高能粒子的轟擊下,銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面,形成所需的銦薄膜。
顯示技術(shù)領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極,確保顯示設(shè)備既能透光顯示圖像,又能導(dǎo)電傳輸信號。
靶材原料(占比約 60%):
用于制備 ITO(氧化銦錫)靶材,生產(chǎn) LCD、OLED 顯示面板的透明導(dǎo)電膜(如手機(jī)屏幕、電視面板)。
光伏領(lǐng)域:作為 CIGS(銅銦鎵硒)薄膜太陽能電池的關(guān)鍵原料,提升光電轉(zhuǎn)換效率。
半導(dǎo)體與電子工業(yè)(占比約 25%):
焊料與封裝:利用銦的低熔點(diǎn)和延展性,作為半導(dǎo)體芯片的焊接材料(如倒裝焊、熱沉連接),可適應(yīng)精密器件的高溫穩(wěn)定性需求。
化合物半導(dǎo)體:與鎵、砷等元素合成 InGaAs、InP 等化合物,用于 5G 芯片、激光器、探測器(如紅外成像器件)。