半導體領域:純銦在半導體中用作薄膜層,銦靶材可用于制造高速電動機的軸承涂層,使?jié)櫥途鶆蚍植?,還可用于半導體器件的制造,如集成電路、芯片等。
顯示領域:廣泛應用于液晶顯示器(LCD)、有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)等顯示器件的制造,用于形成透明導電薄膜,提高顯示器的性能和質量。
科研與前沿技術
1. 量子計算與超導器件
探索應用:銦薄膜作為超導材料(如 In-Nb 合金),用于量子比特器件的制備,利用其超導電性實現(xiàn)低損耗量子信號傳輸。
2. 柔性電子與可穿戴設備
技術方向:在柔性電路板(FPC)、電子皮膚中作為可拉伸導電薄膜,利用銦的高延展性滿足器件形變需求。
濺射時間與沉積厚度
厚度監(jiān)控:使用石英晶體微天平(QCM)實時監(jiān)測薄膜沉積速率,結合靶材消耗速率(約 0.1~0.5 μm/min,與功率相關),控制濺射時間。
靶材利用率:避免過度濺射導致靶材 “打穿”(剩余厚度<2 mm 時需及時更換),通常平面靶材利用率約 30%~40%,旋轉靶可提升至 60% 以上。