ITO廢料來源與回收技術(shù) ITO廢料來源于生產(chǎn)廢料、終端廢料及工業(yè)副產(chǎn)物，為回收提供了豐富資源。ITO廢料來源于多個(gè)方面。首先，在ITO靶材的生產(chǎn)過程中，會(huì)產(chǎn)生切削碎屑和鍍膜后的廢靶材，這些屬于生產(chǎn)廢料。其次，隨著電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代，廢棄的LCD面板、智能手機(jī)屏幕以及光伏薄膜等電子垃圾也逐漸增多，這些被稱為終端廢料。此外，金屬冶煉過程中也會(huì)產(chǎn)生含銦煙塵或廢渣，這屬于工業(yè)副產(chǎn)物。這些不同來源的ITO廢料，為銦的回收利用提供了豐富的資源。

物理分離法中的機(jī)械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進(jìn)行分離。隨后，再結(jié)合化學(xué)處理對(duì)分離出的ITO涂層進(jìn)行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對(duì)較低。再生銦的應(yīng)用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導(dǎo)體、合金等領(lǐng)域的使用。從經(jīng)濟(jì)角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時(shí)，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對(duì)環(huán)境友好，還能帶來顯著的經(jīng)濟(jì)效益。隨著科技的不斷進(jìn)步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加，且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關(guān)鍵所在。

溶劑萃取法（化學(xué)法） 以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級(jí)逆流萃取，銦萃取率可達(dá)98%。 該工藝對(duì)低品位原料（含銦0.02%）適用性強(qiáng)，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

氧化銦是一種寬禁帶半導(dǎo)體，具有良好的光學(xué)透明性，而氧化錫的引入則增強(qiáng)了材料的導(dǎo)電性。這種成分結(jié)構(gòu)使得ITO材料在保證高透光率的同時(shí)也具有低電阻率，兼具光學(xué)和電學(xué)性能。ITO靶材的這一獨(dú)特特性使其成為透明導(dǎo)電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設(shè)備和顯示技術(shù)。