凈室的定義為：將空間范圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產、生化技術、生物技術、精密機械、制藥、和醫(yī)院內的手術室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內，才不會對制程產生影響。作為生產設施，凈室可以占據廠房很多位置。

凈室系統，制造匹配規(guī)格之潔凈空氣，連續(xù)且穩(wěn)定供給足夠之潔凈空氣于使用端，凈室內的制造區(qū)（FAB）。一般而言，制造潔凈空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經過凈室系統各種處理單元設備之處理后進而得到匹配規(guī)格之潔凈空氣。以下簡單介紹其處理流程：外氣經由外氣空調箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）并控制其溫濕度后，經由回風管道間（Mech. Chase），將凈室之循環(huán)風量與外氣空調箱之補充風量混合，經由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之回風降溫至凈室要求之規(guī)格，透過循環(huán)風扇（Fan Filter Unit或FFU）帶動凈室的氣流循環(huán)帶走微塵及熱量，后經過超高性能過濾網（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）過濾后，供應至Fab區(qū)。

所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。

凈室是一種以合理的成本開發(fā)高質量軟件的基于理論、面向工作組的方法。凈室是基于理論的，因為堅實的理論基礎是任何工程學科所不可缺少的。再好的管理也代替不了理論基礎。凈室是面向工作組的，因為軟件是由人開發(fā)出來的，并且理論必須簡化到實際應用才能引導人的創(chuàng)造力和協作精神。凈室是針對經濟實用軟件的生產的，因為在現實生活中，業(yè)務和資源的限制必須在軟件工程中予以滿足。后，凈室是針對高質量軟件的生產的，因為高質量改進管理，降低風險及成本，滿足用戶需求，提供競爭優(yōu)勢。