國(guó)內(nèi)外關(guān)于ITO廢靶材的資源化利用和無(wú)害化處置技術(shù)的相關(guān)研究較多，主要可分為濕法、火法以及火濕法聯(lián)合三大類。濕法類主要的提取方式為鹽酸浸出，浸出液經(jīng)氧化法或使用鋁粉、鋅粉等分離銦錫后再置換得到粗銦，該方法的缺點(diǎn)是銦錫分離率低，氧化錫渣等中含銦約1%～2%，銦直收率﹤97%。

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ITO（氧化銦錫）靶材是濺射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一種，在顯示靶材中占比將近50%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過(guò)一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫氣氛燒結(jié)（1600度，通氧氣燒結(jié)）形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。

2017年6月，工信部發(fā)布《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄（2017年版）》，提出了平板顯示用ITO靶材、平板顯示用高純鉬靶材等重點(diǎn)新材料的應(yīng)用領(lǐng)域。伴隨ITO技術(shù)和產(chǎn)能突破瓶頸，國(guó)產(chǎn)ITO靶材憑借成本和性價(jià)比優(yōu)勢(shì)將逐步占領(lǐng)市場(chǎng)。