氧化硅拋光液 氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。 廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。

化學拋光是一種將金相樣品浸入調配的化學拋光液中，借化學藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法。化學拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡便，不需任何儀器設備，只需要選擇適當的化學拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。

汽車行駛在各種路面，很容易附著上臟污的東西，剛剛洗完的車開出去不久，車漆上就會又成了灰蒙蒙的一片。而釉表面不粘、不附著的特性，使得漆面即使在惡劣和污染的環(huán)境中也能長久保持潔凈，而且還可以有效的抵御溫度對車漆造成的影響，具有防酸、防堿、防退色、抗氧化、防靜電、高保真等功能,封釉可以有效地降低表面的粗糙度，減少漆面和外界的摩擦，從而更好地保護漆面，但封釉本身由于其材質和施工方式的限制無法給漆面提供硬度，很多時候是商家宣傳的噱頭。

拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。 拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。